當(dāng)前標(biāo)簽：真空碳化爐
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用途：新型碳化硅材料，碳素材料，導(dǎo)熱石墨膜材料前級(jí)真空負(fù)壓脫焦和中溫碳化處理。◇1600℃的高溫，溫度均勻性≤5℃◇測溫精度高，控溫精度±1℃◇極限真空度可按照工藝需要設(shè)置◇爐膛氣氛可控，可通丙烯/甲烷/高純氮/氬氣◇
