當前標簽：真空氣相沉積爐
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氣相沉積爐概述：CVD化學氣相沉積爐是用于制備碳碳復合材料，完成CVD氣相沉積工藝的重要工藝裝備。1)設計溫度：1250℃/1650℃/1800℃/2200℃2)常用溫度：900~1200℃3)真空度：＜50Pa4)壓升率：空爐冷態(tài)6.67
