當(dāng)前標(biāo)簽：CVD化學(xué)氣相沉積爐
CVD化學(xué)氣相沉積爐為你詳細(xì)介紹CVD化學(xué)氣相沉積爐的產(chǎn)品分類,包括CVD化學(xué)氣相沉積爐下的所有產(chǎn)品的用途、型號(hào)、范圍、圖片、新聞及價(jià)格。同時(shí)我們還為您精選了CVD化學(xué)氣相沉積爐分類的行業(yè)資訊、價(jià)格行情、展會(huì)信息、圖片資料等，在全國地區(qū)獲得用戶好評(píng)，欲了解更多詳細(xì)信息,請(qǐng)點(diǎn)擊訪問!
-
CVD化學(xué)氣相沉積爐是制備C/C復(fù)合材料的關(guān)鍵技術(shù)裝備。感應(yīng)加熱CVD化學(xué)氣相沉積爐設(shè)備采用中頻感應(yīng)加熱，設(shè)備采用立式，爐底升降進(jìn)出料結(jié)構(gòu)。溫控系統(tǒng)選用日本島電（或同檔次一線品牌）智能程序控溫儀控溫，全套設(shè)備包含爐體、中頻電源、電控系統(tǒng)、氣
-
氣相沉積爐概述：CVD化學(xué)氣相沉積爐是用于制備碳碳復(fù)合材料，完成CVD氣相沉積工藝的重要工藝裝備。1)設(shè)計(jì)溫度：1250℃/1650℃/1800℃/2200℃2)常用溫度：900~1200℃3)真空度：＜50Pa4)壓升率：空爐冷態(tài)6.67
