手 機：13873301595（微信同號）
電 話：0731-22335988
聯系人：楊先生
傳 真：0731-22331905
郵 箱：info@hanhegy.com
地 址：湖南省株洲市石峰區(qū)云霞大道云創(chuàng)智城產業(yè)園8棟
網 址：www.267686.cn
氣相沉積爐概述：CVD化學氣相沉積爐是用于制備碳碳復合材料，完成CVD氣相沉積工藝的重要工藝裝備。
1)設計溫度：1250℃/1650℃/1800℃/2200℃
2)常用溫度：900~1200℃
3)真空度：＜50Pa
4)壓升率：空爐冷態(tài)6.67Pa/h(或150Pa/24h)
5)加熱方式：石墨電阻加熱或感應加熱
6)氣氛介質：氮氣、丙烯、乙炔、氫氣
7)控氣方式：質量流量計控制
8)爐型：方形、圓形、立式或臥式結構（非標設計）
9)其它介質：爐殼冷水
